第112回 化学研究所 研究発表会

第112回 化学研究所 研究発表会

日时

2012年12月7日(金曜日) 10時00分~17時40分

会场

宇治キャンパス内 宇治おうばくプラザ きはだホール

申し込み

不要

対象

どなたでも参加になれます。
化学研究所への修士课程入学、博士后期课程编入学に兴味をお持ちの方のご来聴も歓迎します。

参加费

无料

プログラム

午前の部 (10時00分~12時20分)
10时00分~10时05分 开会のあいさつ
10时05分~10时35分 レゾルシノール代谢系酵素群の机能発现に関する构造基盘研究
藤井 知実 ほか
10时35分~11时05分 形态形成に関与する遗伝子発现制御机构
柘植 知彦
11时05分~11时15分 京大化研奨励賞?京大化研学生研究賞 授与式
11时15分~11时30分 京大化研学生研究賞 受賞講演
11时30分~12时20分 京大化研奨励賞 受賞講演
 
13时20分~14时40分ポスターセッション(71件)
(場所:おうばくプラザ2階 ハイブリッドスペース)
 
午后の部(14时50分~17时40分)
14时50分~15时20分 ポルフィリンと金クラスターからなるプラトン立体の构筑  
坂本 雅典 ほか
15时20分~15时50分 环状白金多核错体を用いたシクロパラフェニレン(颁笔笔)类縁体および高歪み颁笔笔の合成  
茅原 栄一 ほか
15时50分~16时20分 有机触媒を用いた新しい型の制御ラジカル重合  
後藤 淳 ほか
16时20分~16时35分 休憩
16时35分~17时05分 気液界面に尝补苍驳尘耻颈谤吸着した単分子膜の膜构造変化と水和の相関解析  
長谷川 健
17时05分~17时35分 フェムト秒レーザーアブレーションと金属表面のナノ构造自己形成  
清水 雅弘 ほか
17时35分~17时40分 闭会のあいさつ

详细

详しくは化学研究所のホームページをご覧ください。

问い合せ先

化学研究所担当事务室
E-mail: koho*scl.kyoto-u.ac.jp (*を@に変えてください)
Fax: 0774-38-3014